L'application interactive de lithographie est un outil permettant d'explorer les principes de base de la cohérence partielle. L'application nécessite un GPU équivalent à une Nvidia RTX 3060, mais ne dépend pas autrement d'interfaces Nvidia comme CUDA.

L'application Litho est une application WebGPU où nous explorons le calcul GPU portable. Encore une fois, rappelez-vous que cette application mettra à rude épreuve votre carte graphique, même les meilleures. Elle peut fonctionner sur un CPU avec des graphiques intégrés, mais ce sera lent. L'application permet à l'utilisateur de modifier interactivement l'éclairage et de masquer des objets. Déplacez-les, faites-les pivoter et agrandissez-les.

Mais le prix de cette interactivité est que chaque petit changement entraîne le calcul de centaines de transformations de Fourier rapides de 1024x1024. Cela ne sera pas interactif sans un GPU récent.

Les instructions d'utilisation de l'application se trouvent dans la colonne la plus à droite. L'interface utilisateur fournit également un lien vers une vidéo d'instruction.

Une subtilité à mentionner est que, dans une simulation d'image comme celle-ci, l'ouverture numérique, la taille du masque virtuel et la longueur d'onde définissent la taille de la pupille (échantillonnée). Afin de maintenir l'application raisonnablement interactive et utile à un public plus large, la taille de la pupille est limitée à 255 x 255 échantillons. Cela a pour conséquence que l'application n'accepte pas n'importe quelle combinaison de ces trois paramètres. Néanmoins, toute combinaison peut être simulée (dans ces limites) ; elle ne peut simplement pas être ajoutée dans n'importe quel ordre.

Par exemple, lors du changement de longueur d'onde (significativement) vers le bas, ajustez d'abord la taille du masque.

Modulateurs spatiaux de lumière

The litho-app also supports a spatial light modulator modelled after the tillt-mirror SLM from Fraunhofer IPMS. This device has far more use options than have been exploited in this application, but there are still some fundamental properties related to image generation with SLMs that can be explored with this application.

Image Exposure

The “Exposure Parameter” field shows two sliders: Exposure and Contrast.

Contrast represents a scaling through an inflection point, and this inflection point is the inverse of the Exposure parameter.

With this parametrization, Exposure can be thought of as a dose relative to dose-to-clear of a resist and while it by no means represents a resist simulation, with a high Contrast setting, it offers some insight how the result may look like once exposed in a high-contrast resist.

The scale goes from 2, which is the correct relative dose for incoherent exposure, to just something large enough (in our case 10) that makes the result mostly binary with a narrow transition region. The correct Exposure value for coherent illumination and hight-contrast resists is 4, as explained in the Tech-talk on Introduction to Goodman’s Graphical Methods.. and the default value is close to what one would get for a partially coherent illumination.

Amusez-vous – et comme toujours, Commentaires est apprécié.